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第一四七章 尋找外援

更新時間:2019-11-26  作者:推土機FFX
大國芯工 第一四七章 尋找外援
芯片加工廠的事按部就班的進行,王岸然也放下一塊大石頭。

不過這只是開始,王岸然要買的不僅僅是一攤子設備,二是要消化技術。

就那光刻機來說,這套設備使用的是尼康生產的gkl107

436納米波長紫光光源,用的是高壓汞燈過濾之后色波長。

這套設備用不了幾年就會被淘汰。

相比于市場上更為先進的248納米的紫光光源光刻機落后了兩代,中間相隔了一代365納米光源光刻機。

要知道365納米和248納米光源,中間隔了一道鴻溝。

436納米紫光光源演進到365納米紫光光源,只能說是技術的進步,所用的光源都是高壓汞燈。

而到了248納米紫光光源,那就是技術的換代,所用的光源是鹵素激光光源。

而且,王岸然記得很清楚,在1995年,193納米紫光激光光源的光刻機在技術上已經取得重大突破,在今后的幾年也將投入市場。

要知道,芯片生產的核心裝備光刻機,每一次更新換代付出的代價,至少是百億美的數量級金,而且越往后越難。

歷史上,193納米紫光光刻機之后的換代,玩死了一大批老牌光刻機廠家。

原本全世界可以生產光刻機的有十三家,日本就有四家,到157納米光刻機之后,也就ASML能勉強活下來,其他一大批廠家要么倒閉,要么半死不活。

島國最頂尖的尼康和佳能,也因為方向錯誤,在157納米干式光刻與ASML浸沒式光刻機在競爭中落敗。

再加上ASML又搞出個雙工作臺技術,大大提高了芯片的生產力和精度。

讓兩大巨頭徹底從生產高端光刻機,淪為售賣中低端產品,再也無力最頂尖的極紫光光刻機的競爭。

到了9102年,全世界的高端市場,只養活了一家ASML。

事實上,如果沒有臺積電,Intel,三星等芯片巨頭的輸血,碩果僅存的ASML也將被市場的浪潮吞沒,光是臺積電和三星,在2016年就投了20億歐元,砸在ASML身上。

難,真難,也不一定會取得成功,光刻機的研究就是吞金巨獸,有沒有意義?

這是肯定的。

這不是錢的事。

但光刻機,光刻膠,蝕刻機,封裝設備,光憑華芯科技一家,吃透這些技術基本上不可能,這需要調動全社會的力量。

在清大的光學研究所,王岸然生了一肚子的悶氣。

劉本清教授在激光光源上耕耘一生,在1971年,參與了我國第一臺紫光干涉激光的研制,在1980年,負責國家第一臺接近式JL_01光刻機的研制。

他實在受不了,自己的研究工作,會受一個毛頭小伙子的指點。

而王黯然也是氣不過,自己在光學研究所投了上千萬,現在好了,就是增加一個浸沒式光刻機的探討研究,就這么難?

“王總,我再重申一遍,浸沒式光刻機雖然在理論上可以縮小投影圖,不過在實際操作上,已經被證明了,這套技術行不通,研究下去就是浪費錢。”

“劉教授,我只是建議在這上面再做一些探討,而且這項技術并沒有證明行不通,而是還沒有行通。”

劉本偉不屑一顧。

“王總,我跟你說這句話是實事求是的,浸沒式光刻技術在七八年前就有立項,其中的困難跟你說,你也不清楚。

我只想說明一點,有那個精力研究浸沒式光刻機,把精力投到紫光激光光源上,效果會好的多。”

看來在這個時代,大家的普遍意識就是,搞浸沒式光刻機是條絕路。

王岸然深吸一口氣,犟鴨子嘴硬的科研人員太多了,自己當初也是他們的一員,跟劉本清生氣,就是跟自己生氣。

這些人要是犯氣牛脾氣來,能把天捅破,唯一的解決之道,就是以德服人,哦,不,是以理服人。

“超高純度折射率液體,往往水里有一粒微塵,或者一個氣泡,或者多了一些離子,都可能對加工造成巨大的影響。

再加上高純水浮在晶片上,目前的光刻膠中的分子會溶進水中,造成液體介質污染,劉教授,我說的沒錯吧!”

劉本清在王岸然說第一句話的時候就愣住了,什么情況,他懂。

待到王岸然將兩大技術難點合盤而出,劉本清說道:“王總,你……?”

王岸然裝著沒看見,背過身,繼續說道:“除了兩大問題,在實際操作中,也會面臨平臺的穩定性,校準系統,曝光時間等問題,需要按每臺機器的類型多次調試……”

劉本清想給王岸然豎個大拇指,說一聲牛,這些資料可不怎么容易找到。

“王總,既然你知道浸沒式光刻機的缺陷,還需要繼續堅持嗎?”

王岸然點點頭,說道:“為什么不!劉教授,高純水介質我們可以自己研發也可以跟外國合作,厭水光刻膠我們也可以這么辦,當然,也可以考慮在光刻膠上再噴一道絕水薄膜,沒有試過,怎么知道不行!”

“我們試過很多種辦法!”

“那就再試,試到解決為止……”

王岸然毫不客氣,作為投資人,他是來發布命令的,而不是跟你討價還價。

浸沒式光刻機肯定是未來的方向,而且波長越長,通過折射后,縮微的效果越明顯。

況且,光刻機的波長并能完全決定芯片的制程,通過特定的曝光方式也可以提高制程。

事實證明,193納米的紫光光源,也可以進行65納米芯片工藝的生產。

以前世對半導體芯片制造的理解,浸沒式光刻,多重曝光方式能夠取得進步的話,完全可以將這臺東芝的二手貨,改造成一臺可以生產800納米工藝的芯片加工廠,甚至更為先進的320納米工藝也不是不可能。

只不過芯片生產的效率,肯定會差很多,但至少說明一點,我們掌握了這項技術。

而且通過這一過程,華芯科技還可以積累這部分的專利,在ASML前面設置一套專利壁壘。

至于這套專利有什么用,王岸然無法評估,按照他的估計,到那個時候,美利堅政府應該也會插手吧!

還有五年的時間,王岸然在紙上寫下磁懸浮雙工作臺,浸沒式光刻系統,兩大未來發展方向。

這次他不打算,光靠國內研究機構的力量。

“該到尋找外援的時候了!”

大國芯工 第一四七章 尋找外援

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